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TFTLCD的工艺介绍;一、阵列工艺的步骤名词(部分);1.清洗;2.PVD与CVD镀膜工艺;(2)sputtering(溅射);空腔内的气体多采用NH3,SiH4,易电离,膜会呈现在图中Wfaerholder位置。;(3)PLD(紫外光照射);CVD工艺镀膜;;3.光刻工艺;(1)涂胶;2.曝光;4.刻蚀;5.去胶;二.彩膜工艺中的部分名词解释;;彩色滤光片;;其基本构造如下:;三.成盒工艺(cell,liquidcrystal);;;;四.模组工艺(module);;;看我多么诚实的笑容!!!!
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