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磁控溅射制备二氧化钛薄膜原理及其工艺
随着工业生产的发展及现代资源的发展需要，通讯，能源，材料，信息科学已经成为新时代技术创新的重中之重。整个光电子和传感器和通讯等主要精密的器件所用到的材料均为功能性较强的材料，都使用了薄膜技术。薄膜材料可以赋予材料的表面属性和整体材料完全不同的材料层，因为薄膜材料本身具有很强的可塑性，可以结合我们所需要的性能。因此，目前薄膜材料和薄膜技术已成为现代材料科学发展的重要组成部分。
薄膜在基片上的形成涉及原子或分子在基片表面上的凝结，形成，长大和随后薄膜的生长过程[1]，本文将展现薄膜在基片上的形成长大及原子或者分子的生长过程，在之上发生的物理以及化学变化，因此
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