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镀膜产品常见不良分析、改善对策

镀膜产品的不良，局部是镀膜工序的本身造成的，局部是前工

程遗留的不良，镀膜最终的品质是整个光学零件加工的〔特别是抛

光、清洗〕的综合反映，对策镀膜不良时必须综合考虑，才能真正

找到不良产生的原因，对策改善才能取得成效。

一、膜强度

膜强度是镜片镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最常见的不良

项。

膜强度的不良〔膜弱〕主要表现为：

①擦拭或用专用胶带拉撕，产生成片脱落；

②擦拭或用专用胶带拉撕，产生点状脱落；

③水煮15分钟后用专用胶带拉撕产生点状或片状脱落；

④用专用橡皮头、1Kg力摩擦40次，有道子产生；

⑤膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子。

改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜外表

硬度光滑度以及膜应力。

膜强度不良的产生原因及对策：

①基片与膜层的结合。

一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因。由于基片外表

在光学冷加工及清洗过程中不可防止地会有一些有害杂质附着在

外表上，而基片的外表由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，

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深入在破坏层的杂质〔如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉

等，其中水汽为主要〕，很难以用一般的方法去除干净，特别对

于亲水性好，吸附力强的基片尤其如此。当膜料分子堆积在这些

杂质上时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。

此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附也差，

同样会影响膜强度。

硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，外表

已经受到腐蚀，形成了腐蚀层或水解层〔也许是局部的、极薄的〕。

膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜结实度不良。

基片外表有脏污、油斑、灰点、口水点等，局部膜层附着不

良，造成局部膜结实度不良。

改善对策：

㈠加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功

能，并保证去油溶液的有效性；如假设是手擦，可考虑先用碳

酸钙粉擦拭后再清擦。

㈡加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能到达300℃以上更好，

恒温20分钟以上，尽可能使基片外表的水汽、油汽挥发。*

注意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘。所以，

真空室的干净度要提高。否则基片在镀前就有灰尘附着，除产

生其它不良外，对膜强度也有影响。〔真空中基片上水汽的化

学解吸温度在260℃以上〕。但不是所有的零件都需要高温烘

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烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高还会有色斑产生。这与

应力以及材料热匹配有较大的关系。

㈢有条件时，机组安装冷凝机〔PLOYCOLD〕，除提高机组

真空抽速外，还可以帮助基片水汽、油气去除。

㈣提高蒸镀真空度，对于1米以上的镀膜机，蒸镀启动真空

应高于3*10Pa，镀膜机越大，蒸镀启动真空更高。

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㈤有条件时，机组安装离子源，镀前轰击，清洁基片外表，

镀膜过程辅助，有利于膜层的密实结实。

㈥膜料的去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室枯燥。

㈦保持工作环境的枯燥〔包括镜片擦拭、上伞工作区〕，清

洁工作环境时不能带入过多的水汽。

㈧对于多层膜，在膜系设计时，就要考虑第一层膜与基片的

匹配，尽可能考虑用AlO膜料，该膜料对大局部基片有较好

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的吸附力。对于金属膜，也可考虑第一层镀Cr或Cr合金。

Cr或Cr合金对基片也有较好的吸附力。

㈨采取研磨液〔抛光液〕复新去除镜片外表的腐蚀层〔水解

层〕

㈩有时候适当降低蒸发速率对膜强度的提高有帮助，对提高

膜外表的光滑度有积极意义。

②膜层应力：

薄膜的成膜过程