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阵列工艺
本工程负责完成阵列基板的生产，包括玻璃基板、
PECVD、溅射、光刻、刻蚀、剥离等工序。
阵列工程使用外购的玻璃基板，充分后在其清洁干
净的表面上通过化学气相沉积（CVD）的方法形成
膜或膜，通过溅射镀膜的方法形成金属膜。然后对栅
电极及引线、有源层孤岛、源漏电极及引线、接触通孔、
像素电极经涂敷、、显影等光刻工艺并
经湿法刻蚀、干法刻蚀后，
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