中国ICD行业PLM市场研究报告.docx

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中国ICD行业

PLM市场研究报告

目 录一第中国ICD行业概述 01

目 录

章ICD行业定义 01

ICD产业链全景图谱 02

ICD市场规模 03

行业转型驱动因素 05

二第PLM市场调研 06

章PLM市场分析 06

PLM需求分析 07

行业政策解读 08

ICD行业PLM前景预测 09

三第PLM代表企业介绍 11

章关于鼎捷软件 11

鼎捷PLM 12

客户案例 14

权威认证 17

第一章 中国ICD行业概述ICD行业定义:

第一章 中国ICD行业概述

ICD又称集成电路设计(英文全称:IntegratedCircuitDesign)指的是专注于集成电路研发、设计和销售的行业。集成电路是半导体产业核心,也是所有电子设备的关键组成部分,包括微处理器、存储器、逻辑器件等。

工具应用在I

工具应用

在ICD领域,由于市场竞争的压力,

电子设计自动化(EDA)和计算机辅

理(PLM)等工具得到了广泛应用。

助设计(CAD)以及产品生命周期管

这些工具帮助工程师进行逻辑设计、

功能验证、静态时序分析和物理设计

及产品管理等流程。

应用领域

ICD(集成电路设计)是一个多学科、

算机、通信、消费电子、汽车、医

高度专业化的领域,广泛应用于计

业不可或缺的一部分。

疗设备等多个领域,是现代电子行

成电路的行为,包括逻辑仿真、电路设计、版图设计、信号完整性分析等。

电子设计自动化(EDA):EDA工具是ICD流程中不可或缺的一部分,它们用于设计和模拟集

计算机辅助设计(CAD):CAD工具辅助设计人员进行版图设计、参数提取和单元表征,帮助

完成电路的构建,尤其是在全定制设计中尤为重要。

产品生命周期管理(PLM):PLM系统提供了一个集中的平台,用于管理集成电路从概念到退

市的整个生命周期。它涉及到设计数据的存储、版本控制、变更管理、产品配置管理以及产品

信息在整个组织中的分发。

名词释义

01

01

原材料与设备供应ICD产业链全景图谱硅晶圆

原材料与设备供应

ICD产业链全景图谱

的核心材料I半C导D行体业制的造基不石可,或是缺

的核心材料

CMP抛光材料

电子特种气体

关键作用,是生产流在半导体制造中发挥程中不可或缺的要素

关键作用,是生产流

湿电子化学品

光刻胶

案转移至关重要光蚀刻材过,程对中集的成光电敏路抗图

案转移至关重要

积设备、离子注入设备等,是设备

积设备、离子注入设备等,是

溅射靶材

是制备薄膜材料的主要技术之一

通晶成电过圆路化表设学面计机平至械坦关抛,重光对要使集。

是助材微料细,加广工泛不应可用或于缺清的洗辅、光流程刻、显影和蚀刻等工艺

包括光刻机、刻蚀机、薄膜沉半导体产业的先导和基础产业

设计、制造与封测IC设计

设计、制造与封测

包括设计、仿真、验证等环节,设计水平直接决定了芯片的功能、性能及成本。

IC封测

IC制造

IC制造涉及IDM模式和晶圆代工模式,是全球半导体产业中的核心环节。

封装测试是IC制造后的重要环节,国内封测企业已获得了基本的技术和良好的产业竞争力。

应用领域通信领域

应用领域

包括智能手机、基站等

工业设备

包括自动化设备以及控制系统等

计算机领域

包括台式笔记本电脑、服务器。

新能源设备包括太阳能电池及风力发电控制

消费电子

包括家用电器及可穿戴设备

航空航天

包括导航系统、控制单元等

汽车电子

包括汽车控制系统,娱乐系统

军工安防

包括军事通信、安全监控等等

02

02

ICD市场规模

1、ICD行业企业数量

截至2023年,国内涉及的集成电路设计企业数量为3451家,同比2022年增加208家。行业增速下行趋势下,国内的芯片设计企业数量仍在增长。

数量 增长率

2013-2023年我国芯片设计企业数量增长情况

4000

3500

3000

2500

2000

1500

1000

500

0

632 681 736

1362 1380

1698 1780

2218

2810

3243 3451

100%

80%

60%

40%

20%

0%

-20%

-40%

-60%

2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023

-80%

资料及数据来源:2023年11月10日中国集成电路设计业2023年会暨广州集成电路产业创新发展高峰论坛·广州?2023AlRightsReserved

2、ICD行业城市增速及规模排行榜

深圳重庆杭州济南苏州无锡南京西安北京珠海

上海 深圳 北京 杭州 无锡 南京 西安 成都 武汉 苏州

2前02三3年名,分按别照为增长深速圳度(排

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