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第五章 MOCVD在半导体材料及其器件上的应用
第一节 MOCVD技术的优点
能批量进展生产是MOCVD的一个突出的优点。MOCVD承受气相反响使得大面积均匀生长成为可能，气相反响也从根本上消退了容器带来的污染。目前直接检测晶片外延生长过程的技术正在引入MOCVD系统，各有机源气流的准确计算机编程掌握以及在线检测己经可以到达准确至原子层厚度和组分掌握。准确掌握不仅从根本上消退了MOCVD有剧毒有机源可能的危害，而且还使很贵重的有机源用量格外节约，大规模生产时其利润仍相当可观。与其他各种制备方法相比，MOCVD具有如下优点：
可制成大面积的均匀薄膜。生产材料外表的均匀压强及气体
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