(高清版)-B-T 40300-2021 微束分析 分析电子显微学 术语.pdfVIP

ICS71.040.40

CCSG04

中华人民共和国国家标准

GB/T40300—2021

微束分析分析电子显微学术语

Microbeamanalysis—Analyticalelectronmicroscopy—Vocabulary

(ISO15932:2013,MOD)

2021-08-20发布2022-03-01实施

国家市场监督管理总局

国家标准化管理委员会发布

GB/T40300—2021

目次

前言I

引言Ⅱ

1范围1

2规范性引用文件1

3缩略语1

4分析电子显微学物理基础术语2

5分析电子显微镜仪器术语5

6分析电子显微术试样制备常用术语10

7分析电子显微术成像和像处理术语11

8分析电子显微术像诠释和分析术语13

9分析电子显微术像放大倍率和分辨率测量与校准的术语16

10分析电子显微术电子衍射的术语18

参考文献20

索引21

GB/T40300—2021

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规

定起草。

本文件修改采用ISO15932:2013《微束分析分析电子显微学术语》。

本文件与ISO15932:2013相比，增加了第2章规范性引用文件。

本文件做了以下编辑性修改：

——章编号0改为1,章编号1、2、3……8分别修改为3、4、5、6……10;

——9.9与5.2.1重复，本文件删去了9.9,将9.10改为9.9;

——在参考文献中用与国际文件有一致性对应关系的我国文件代替国际文件，调整了文献顺序；

——增加了索引。

本文件对ISO15932:2013有误之处进行了更正，主要更正如下：

——更正了缩略语“EDS”和“EDX”的定义；

——缩略语EPMA的定义增加了“显微分析仪”;

——缩略语SEM的定义增加了“扫描电子显微镜”;

——4.2.1删掉了定义中“动量守恒”的含义；

——4.2.2删掉了定义中的“系统”及“和/或动量”;

——定义中的“静电场”更正为“电位差”;

——定义中的“理想柱面透镜”更改为“理想透镜”;

———5.4.2删去了定义中的“绕光轴的旋转对称性”;

——5.7定义中的“试样与形成衍射花样的平面”更正为“试样与衍射花样被观察平面(经中间镜和

投影镜放大)之间”;

——6.4的定义更改为“同时向试样双面或单面喷射……”;

——6.10定义中的“在TEM观察中”更改为“在电子显微镜观察中“;

—-7.6定义中的“用环形暗场探测器接收一支衍射束”更正为“用环形暗场探测器接收一支或多

支衍射束”;

——8.3定义中增加了“质量厚度”,加了注；

——8.6.5将“[来源：ISO22493,有修改]”修改为“[来源：ISO23833,有修改]”;

——8.6.8定义中的EDS更正为EDX;

——8.6.9定义中的EDS更正为EDX;

——8.12.1增加了注；

——9.2.2定义中的“相机常数”更正为“放大倍数”;

—-9.7定义中的“探针尺寸”更正为“点光源像”;

—定义中的“垂直堆垛的两个晶体中发生两次布拉格衍射”更正为“晶体中的一次衍射

束再次发生布拉格衍射”;

——10.3.6更正了会聚束的概念。