电子显微分析方法 电子光学基础.ppt

;题：在德拜图形上获得了某简单立方物质的如下四条衍射线，所给出的sin2?数值均为CuK?1衍射的结果。试用“a-cos2?〞图解外推法确定晶格常数，有效数字为4位。;电子显微分析方法;电子显微分析方法(续);第九章电子光学根底;*光的折射

*光学透镜成像

*光的衍射和光学显微镜的分辨本领极限;*光的折射;折射定律：

1〕入射光、折射光和介质界面的法线三者都在同一平面内

2〕入射角?、折射角?与两介质折射率n1、n2之间满足以下关系：;*光的折射

*光学透镜成像

*光的衍射和光学显微镜的分辨本领极限;*光学透镜成像;a-2.利用作图法，可以确定透镜成像的位置和大小：;*光的折射

*光学透镜成像

*光的衍射和光学显微镜的分辨本领极限;*光的衍射和光学显微镜的分辨本领极限;光学显微镜分辨本领理论极限;*光学显微镜的分辨率极限

可采用组合透镜或设计特殊形状的折射界面等措施来降低几何像差〔尤其是球差〕—较大的孔径半角；最大的孔径半角??70o~80o

在物方介质为油的情况下：n?1.5

数值孔径nsin??1.25~1.35;有效放大倍数;*电子的波性及其波长;*电子在电磁场中的运动和磁透镜

;当电子速度与均匀磁场并不垂直时，电子运动的轨迹将是螺旋线;;*电磁透镜;;有软磁壳电磁透镜;有极靴电磁透镜;;电磁透镜的像放大倍数：;第九章电子光学根底;9.2电磁透镜的像差与分辨本领;球差：;;色差：是由成像电子波长〔或能量〕变化引起电磁透镜焦距变化而产生的一种像差。;色散散焦斑半径?rc(折算到透镜物平面〕：;透镜球差Cs、色差系数Cc与激磁电流I的关系;*电磁透镜分辨本领;第九章电子光学根底;9.3电磁透镜的景深和焦长;*景深：透镜物平面允许的轴向偏差;*焦长：透镜像平面允许的轴向偏差;EMandOMcomparisonchart;2.结构与工作原理;*电子的波性及其波长;*电磁透镜;电磁透镜的像放大倍数：;9.2电磁透镜的像差与分辨本领;9.3电磁透镜的景深和焦长;第十章透射电子显微镜;10.1透射电子显微镜的结构与成像原理;*照明系统;电子枪：透射电子显微镜的电子源;;*成像系统;投影镜：

一个强激磁、短焦距透镜，将中间镜所成???放大并投影到荧光屏上。

为确保成像系统足够高的放大倍数，投影镜应提供尽可能大的放大倍数。

;;;*图象观察和记录系统;;第十章透射电子显微镜;样品台：以选择感兴趣的区域或位向、一定条件下进行观察分析。

包括单倾台、双倾台、加热台、拉伸台等;平移，即照明电子束轴线与成像系统轴线合轴，适用于明场像

倾斜照明，即照明电子束轴线与成像系统轴线成一定夹角〔一般2~30〕;;;第十章透射电子显微镜;10.3透射电子显微镜分辨本领与放大倍数的测定

点分辨本领的测定：蒸发到支撑膜上的金属或合金的粒子〔粒度0.5-1nm,间距0.2-1nm〕

晶格分辨本领的测定(单晶薄膜晶格像);放大倍数的标定;;(核)弹性散射截面?n：

?n=?rn2;TEM小孔径角成像;质厚衬度成像原理

;质厚成像原理;质厚衬度成像原理

;;11.3复型;11.4萃取复型与粉末样品;萃取复型的制备及钢中析出的Mo2C和NbC;粉末样品制备;TEMmicrographsofbareSiO2(a)andcore–shellstructuredSiO2@Gd1.4Eu0.6(WO4)3(b)particlesannealedat800?°C.

bythesol–gelmethod;;;;