YST981.1-2024 高纯铟化学分析方法 第1部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法-报批稿.pdf

ICS77.040.30

CCSH17

YS

中华人民共和国有色金属行业标准

YS/T981.1—XXXX

代替YS/T981.1—2014

高纯铟化学分析方法

第1部分：痕量杂质元素含量的测定

辉光放电质谱法

Methodsforchemicalanalysisofhighpurityindium—Part1：

Determinationoftraceimpurityelementscontent—Glowdischargemass

spectrometry

（报批稿）

XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

YS/TXXXX—XXXX

前言

本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定起

草。

本文件是YS/T981《高纯铟化学分析方法》的第1部分。YS/T981已经发布了以下部分：

——第1部分：痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法；

——第2部分：镁、铝、铁、镍、铜、锌、银、镉、锡、铅的测定电感耦合等离子体质谱法；

——第3部分：硅量的测定硅钼蓝分光光度法；

——第4部分：锡量的测定苯芴酮-溴代十六烷基三甲胺吸光光度法；

——第5部分：铊量的测定罗丹明B吸光光度法。

本文件代替YS/T981.1-2014《高纯铟化学分析方法镁、铝、硅、硫、铁、镍、铜、锌、砷、银、

镉、锡、铊、铅的测定高质量分辨率辉光放电质谱法》，与YS/T981.1-2014相比，除结构调整和编辑

性改动外，主要技术变化如下：

a)更改了范围（见第1章，2014年版的第1章）；

b)更改了方法原理（见第4章，2014年版的第2章）；

c)增加了试验条件（见第5章）；

d)更改了试剂或材料（见第6章，2014年版的第3章）；

e)更改了仪器设备（见第7章，2014年版的第4章）；

f)更改了样品的要求（见第8章，2014年版的6.1）；

g)更改了试验步骤（见第9章，2014年版的6.4）；

h)更改了试验数据处理（见第10章，2014年版的第7章）；

i)更改了精密度（见第10章，2014年版的第8章）；

j)删除了质量保证和控制（见2014年版的第9章）。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）与全国半导体设备和材料标准化技术委员

会材料分技术委员会（SAC/TC203/SC2）共同提出并归口。

本文件起草单位：国标（北京）检验认证有限公司、株洲科能新材料股份有限公司、广东先导微电

子科技有限公司、东方电气（乐山）峨半高纯材料有限公司、云南驰宏国际锗业有限公司、朝阳金美镓

业有限公司、云南锡业集团（控股）有限责任公司、北京清质分析技术有限公司、武汉拓材科技有限公

司、楚雄川至电子材料有限公司。

本文件主要起草人：刘红、向清华、金智宏、谭秀珍、徐成、彭伟校、黎亚文、廖吉伟、汪洋、刘

鹏宇、刘智鹏、赵景鑫、陈丽诗、李铭、卢鹏荐、张林、曹昌威、唐朝辉。

本文件于2014年首次发布为YS/T981.1-2014，本次为第一次修订。