附件1理化分析测试中心设备收费标准.doc

附件1理化分析测试中心设备收费标准

仪器名称

仪器简介

性能参数

收费标准

日本电子JSM-6360LV扫描电镜

本仪器用于各种材料的形貌组织观察、金属材料断口分析和失效分析。与能谱仪联用，分析固体样品的微观形貌，样品的微区元素成份定性分析、定量分析及线分布、面分布。进行样品形态和粒度的测定。

最高倍数：2万倍

样品台X:80mm，Y:40mm

校内：50元/小时

校外：300元/小时

日本电子JEM-2100F透射电镜

本仪器用于材料的高分辨形貌观察和晶体结构分析、定性与定量成分分析等。配有数字化CCD相机、能谱仪以及扫描透射系统。可进行透射电镜形貌像和电子衍射花样的数字化像的记录；进行材料微区的定性、定量成份分析；进行扫描透射明场像。

最高电压：200KV

分辨率:

点分辨率:≤0.19nm

线分辨率:≤0.10nm

放大倍数高达60万倍。

样品倾斜角度:≥±25°

校内：400元/小时

校外：1000元/小时

微栅：

校内：20元/个

校外：30元/个

丹麦司特尔StruersTenuPol-5双喷电解抛光

用于透射电镜的试样电解磨薄，可以在几秒通过内置扫描功能确定适当的抛光参数，几分钟之内将直径为3毫米或2.3毫米的试样制备成透射电镜用带孔试样。

电压：220V，50Hz

额定功率：200W

冷却温度：最大-40℃

电解电流：0-1000mA

电解电压：0-120V

液泵调速：0-120级

电解液注入量：450-860ml

冷却方式：液氮冷却，或外接低温冷却泵

校内：30元/样品

校外：60元/样品

Gatan691氩离子减薄仪

Gatan695氩离子减薄仪

具有双离子源，每枪的角度变化为±10o，且相互独立；一台光学立体显微镜用来检查减薄过程中任一时刻在工作位置的样品来达到精确控制样品的最终减薄状态；；小于30秒的样品更换时间。

抛光角?+10°?到?-10°?。

离子束能量：100V?-?8.0kV;离子束流密度：10mA/cm2?峰值;抛光速度：300?μm/h（8.0kV条件下对于硅试样）

校内：50元/小时

校外：100元/小时

LeicaTCSSP8激光共聚焦显微镜

该设备是一种完全自由调节完全适应于各种样品的共聚焦系统，相比荧光显微镜，光学成像的分辨率提高了30%-40%，具体分为扫描成像系统、显微镜、控制软件及图像处理分析系统，配备共焦扫描专用Z轴载物台，可以实现对活细胞或组织切片进行连续扫描、多维图象的获得、细胞内离子荧光标记等功能。

固体激光器：405nm50mW，488nm20mW，552nm20mW；

检测器：2个水冷式PMT检测器，，1个磷砷化镓HyD检测器；

分辨率：8192x8192；

显微镜目镜：10X，视场数25；

荧光物镜：10X，20X，40X，63X

校内：100元/小时

校外：300元/小时

荷兰帕纳科EmpyreanX-射线衍射仪

主要用于测定样品的晶体结构，可以用于物相分析、织构和应力测定。对薄膜样品可进行薄膜掠射和反射，进行多层膜物相分析和薄膜厚度研究。带有永久使用权的粉末数据库和单晶数据库，Retiveld精修，RIR参考强度直接给出半定量结果。微区附件可以检测最小100mm的样品。

靶材及功率：Cu靶2~3kW，另配备Co靶

最大工作电压：60kV

最大工作电流：50mA

扫描方式:θ/θ方式。

物相分析：20元/样。应力、微区：50元/样。织构：80元/样

校外收费参照校内价格的2倍。

德国蔡司SUPRA55场发射扫描电镜

用于各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

倍率：12-300,000×

探测器：镜筒内二次电子探测器，样品室二次电子探测器，背散射电子探测器?

X射线能谱仪：电制冷型，硅漂移探头，有效探测面积不少于50?mm2。EBSD背散射电子衍射分析仪：用于材料的物相和结构组合分析

校内：200元/小时

校外：600/小时

Gatan氩离子抛光系统ilionii697

主要用于块估样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，可抛光加工由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。

抛光角?+10°?到?-10°?。

离子束能量：100V?-?8.0kV;离子束流密度：10mA/cm2?峰值;抛光速度：300?μm/h（8.0kV条件下对于硅试样）

50元/小时

校外收费参照校内价格的2倍。

P.E.-Frontier红外光谱仪

利用物质在中红外