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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利说明书
(10)申请公布号CN1696221A
(43)申请公布日2005.11.16
(21)申请号CN200410009078.6
(22)申请日2004.05.11
(71)申请人中科纳米技术工程中心有限公司
地址100094北京市海淀区永丰北清路99号3号楼
(72)发明人曹新宇江雷
(74)专利代理机构上海智信专利代理有限公司
代理人李柏
(51)Int.CI
C09D163/00
C09D133/00
C09D5/00
权利要求说明书说明书幅图
(54)发明名称
阳光控制低辐射涂层溶液及其制备
方法和用途
(57)摘要
本发明涉及一种水性溶液体系的组
成及用此溶液制备阳光控制低辐射涂层的
方法,构成此涂层的溶液体系至少包含一
种掺杂金属氧化物的纳米粒子和高分子成
膜成分。该溶液体系的分散介质为水、水
和醇类、水和醇类及酯类的混合溶液,分
散介质不含苯、甲苯及毒害大的挥发成
分;该涂层的制备为常压下成膜,处理温
度不超过150摄氏度;如有必要,此涂层
可复合其它薄膜以得到更佳阳光控制和低
辐射的效果。溶液可直接涂敷于玻璃表面
和有机材料表面,不受基材的形状和尺寸
限制,具有良好的耐磨性。
法律状态
法律状态公告日法律状态信息法律状态
权利要求说明书
1.一种阳光控制低辐射涂层溶液,其特征是:所述的涂层溶液体系中至少包含一种
掺杂金属氧化物的纳米粒子,以及高分子成膜成份和紫外光吸收剂,其中,掺杂金
属氧化物的纳米粒子在溶液中的含量为3~30wt%,高分子成膜成份在溶液中的含
量为20~60wt%,紫外光吸收剂在溶液中的含量为0~10%;分散介质选自水;水
和醇类或醇类衍生物的混合物,其中水与醇类或醇类衍生物的体积比大于0.6;水
和醇类或醇类衍生物以及酯类或衍生物的混合物,其中酯类或酯类衍生物的总量不
高于总分散介质体积的20%;水和其它有机溶剂的混合物中的一种;
所述的金属氧化物为氧化锡、氧化锌、氧化铟、氧化钛或氧化镉;
所述的高分子成膜成份选自水溶性环氧酯、水溶性醇酸树酯、水溶性丙稀酸酯树酯、
水溶性丁二酸树酯、丙烯酸酯乳液、苯-丙乳液、有机硅改性丙烯酸乳液、聚氨酯
乳液、丙稀酸酯-聚氨酯共聚乳液、有机硅改性的聚氨酯乳液、环氧乳液、环氧改
性的聚氨酯乳液、聚酯乳液、有机硅改性的环氧乳液、有机硅聚合物水溶液、有机
硅聚合物乳液中的一种或两种;
所述的分散介质中醇类或醇类衍生物包括:乙醇、甲乙醚、乙醚、乙二醇、异丙醇、
正丙醇、丙二醇、丙二醇单甲醚、丙二醇二甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇甲乙醚、正
丁醇、丁二醇或戊二醇;
所述的分散介质中酯类或酯类衍生物包括:甲酸甲酯、乙酸乙酯、甲酸乙酯、乙酸
甲酯、乙二酸二甲酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、丙二酸甲乙酯或丙二酸二乙酯;
所述的分散介质中其它有机溶剂包括:醋酸、乳酸、环氧六环、丙酮或环己酮,用
量为分散介质重量的0~30%;
所述的紫外光吸收剂选自氧化钛、氧化硅、氧化锡、氧化锌、氧化铁、氧化镉、氧
化钨、氧化锰、氧化锆、氧化铝、苯并三唑、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-
氯代苯并三唑、2-(2’羟基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、N-
(乙氧基羰基苯基)-N’-甲基-N’-苯基甲醚、N-(乙氧基羰基苯基)-N’-乙基-N’-苯基甲
醚、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2,4-二羟基二苯酮、2-羟基-4-甲氧基-5-磺酸二苯
酮、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑中的一种或两种。
2.根据权利要求1所述的涂层溶液,其特征是:所述的有机硅聚合物至少含有以下
重复链节中的一种:(RSiOsub1.5/sub)subn/sub
(1)、、(2)
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