半导体工艺复习题.docx

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填空20’ 简答20’ 推断10’ 综合50’

第一单元

肯定温度，杂质在晶体中具有最大平衡浓度，这一平衡浓度就称为什么？固溶度

按制备时有无使用坩埚分为两类，有坩埚分为？无坩埚分为？〔P24〕有坩埚：直拉法、磁控直拉法

无坩埚：悬浮区熔法

外延工艺按方法可分为哪些？〔P37〕

气相外延、液相外延、固相外延和分子束外延

Wafer的中文含义是什么？目前常用的材料有哪两种？晶圆；硅和锗

自掺杂效应与互集中效应〔P47-48〕

左图：自掺杂效应是指高温外延时，高掺杂衬底的杂质反集中进入气相边界层，又从边界层集中掺入外延层的现象。自掺杂效应是气相外延的本征效应，不行能完全避开。

自掺

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