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YS/TXXXX—20XX
钨的发射光谱分析方法
1范围
本文件规定了钨及钨化合物中铁、硅、铝、锰、镁、镍、钛、钒、钴、镉、砷、铅、铋、锡、锑、铜、铬、钙、钼含量的测定方法,包括直读光谱法(方法一)和光栅摄谱法(方法二)。
本文件适用于钨及钨化合物中铁、硅、铝、锰、镁、镍、钛、钒、钴、镉、砷、铅、铋、锡、锑、铜、铬、钙、钼含量的测定,测定范围见表1。测定范围相同以方法一为仲裁方法。
表1测定范围
元素
测定范围/%
元素
测定范围/%
铁
0.0003~0.020
砷
0.00005~0.020
硅
0.0004~0.020
铅
0.00005~0.0024
铝
0.0002~0.010
铋
0.00005~0.0024
锰
0.0002~0.010
锡
0.00005~0.0024
镁
0.00015~0.010
锑
0.00025~0.010
镍
0.00015~0.010
铜
0.00003~0.0070
钛
0.00025~0.015
铬
0.00025~0.015
钒
0.00025~0.015
钙
0.0004~0.015
钴
0.00025~0.015
钼
0.0010~0.050
镉
0.00005~0.0030
2规范性引用文件
本文件无规范性引用文件。
3术语和定义
本文件无需界定术语和定义。
4方法一:直读光谱法
4.1原理
将试料转化为三氧化钨后与缓冲剂充分混匀,在直读光谱仪上,用直流电弧激发摄谱,被列阵CCD采集到将光信号转化为电信号,数据采集系统采集到cCD不同位置的电信号就获得不同特征谱线的信号强度,通过一定的定量转换计算出各元素的含量,并对结果进行处理和报表显示。
4.2试剂或材料
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4.2.1三氧化钨,99.995%。
4.2.2三氧化二铁,光谱纯。
4.2.3二氧化硅,光谱纯。
4.2.4三氧化二铝,光谱纯。
4.2.5二氧化锰,光谱纯。
4.2.6氧化镁,光谱纯。
4.2.7氧化镍,光谱纯。
4.2.8二氧化钛,光谱纯。
4.2.9五氧化二钒,光谱纯。
4.2.10四氧化三钴,光谱纯。
4.2.11氧化镉,光谱纯。
4.2.12三氧化二砷,光谱纯。
4.2.13氧化铅,光谱纯。
4.2.14三氧化二铋,光谱纯。
4.2.15氧化锡,光谱纯。
4.2.16三氧化二锑,光谱纯。
4.2.17氧化铜,光谱纯。
4.2.18三氧化二铬,光谱纯。
4.2.19氧化钙,光谱纯。
4.2.20三氧化钼,光谱纯。
4.2.21三氧化钨光谱分析标准样品。
4.2.22光谱缓冲剂,按表2配备。
表2光谱缓冲剂成分
试剂名称
试剂纯度
含量/%
石墨碳粉
光谱纯
95.00
碳酸锂
5.00
4.2.23蔗糖溶液:称取10.00g蔗糖,溶于100mL乙醇溶液(1+1)中,装于塑料瓶中备用。
4.2.24石墨电极:下电极φxh:4mm×7mm,上电极平顶锥形,锥顶截面中2.5mm。
4.3仪器设备
4.3.1直流电弧-直读光谱仪,190nm~350nm,波长分率不低于0.010nm。
4.3.2恒温干燥箱。
4.3.3分样筛,孔径为0.10mm~0.15mm尼龙筛网。
4.4试样
4.4.1试样处理
4.4.1.1钨酸铵、蓝色氧化钨、紫色氧化钨:取3g试样置入瓷坩埚中,于箱形电阻炉内从低温升至650℃,保温一定时间至转化完全,取出冷却混匀。
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4.4.1.2钨粉、碳化钨粉、铸造碳化钨粉:取3g试样置入瓷坩埚中,于箱形电阻炉内从低温升至780℃,保温一定时间至转化完全,取出冷却混匀。
4.4.1.3钨条、钨丝及板材:先取试样4g~6g置入纯钨研钵中,捣碎研细过筛(4.3.3),将筛下粉末再按(4.4.1.2)处理。
4.4.2标样配制
采用行业三氧化钨光谱分析标准样品YSS001-1996,或国家级三氧化钨光谱分析标准样品,或者按表3计算量在三氧化钨中加入各元素氧化物,配制成主标准,再用三氧化钨(4.2.1)稀释配制成一套标样,经校正后分别称取各号标样(0.4±0.0001g)与(0.2g±0.001g)缓冲剂(4.2.22)研匀。
表3
标样号
元素质量分数/%
Mo
Fe、Si、Ti、
V、Co、As、Cr、Ca、Sb
Al、Mn、Mg、Ni
Cd
Pb、Bi、Sn
Cu
I
II
一号标样
0.0006
0.00025
0.00015
0.0003
0.000025
0.00009
0.00001
二号标样
0.0018
0.00075
0.00045
0.00009
0.000075
0.00027
0.00003
三号标样
0.0054
0.0025
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