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本发明公开了一种双面抛光机及其除胶装置,该除胶装置包括:除胶机构、除胶介质存储箱和控制开关;除胶机构用于设置于双面抛光机的磨盘的外侧,且相对于磨盘能够活动,具有可切换的第一工位和第二工位,除胶机构在第一工位时位于磨盘内且同磨盘的盘面接触配合,并能够向磨盘的盘面喷射除胶介质,在第二工位时位于磨盘外;除胶介质存储箱用于向除胶机构提供除胶介质;控制开关用于控制除胶机构的活动,以使得除胶机构在第一工位和第二工位切换,和控制除胶介质存储箱的开闭,从而有助于实现磨盘残胶的自动化清除,不仅使得磨盘残胶的清除效
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117733731A
(43)申请公布日2024.03.22
(21)申请号202311807445.6B08B3/02(2006.01)
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