采购需求填写说明.doc

采购需求填写说明

1.采购需求应在充分调研的基础上形成，编写要求科学合理，需求参数仅需写出工作中实际需求的功能性的指标。

2.一般参数需要给出范围，或者是优于该范围。

3.投标人资格要求须遵照我国法定机构制定的强制性规定，非法定资质不能作为投标人资格要求，不能要求有ISO9001类对企业规模要求的资质。

4.一般不能有“行业顶级”“国际知名品牌”等类似表述。

5.正确编写所有公示、化学符号，英文缩写需要给出中文解释。

采购需求

一、该项目最高限价为人民币（180）万元。

二、采购需求应当完整、明确，并包括以下内容：

（一）项目概述

采购高功率脉冲等离子体辅助磁约束气相沉积系统一套

（二）采购标的的数量、采购项目交付或者实施的时间和地点：

1.采购标的的数量：1台

2.交付时间：合同签订后5个月

3.交付地点：西安交通大学指定地点；

（三）技术需求（采购标的需满足的质量、安全、技术规格、物理特性等要求）：

1.功能性需求：精细过滤、纳米超硬、多功能成膜

2.技术性需求：

产品清单及指标要求：

名称

技术指标

真空系统

真空室

有效净尺寸不低于600×600（直径×高，单位mm），配备可控转动机构、水冷机构、循环水机及空压机。

循环水机流量4立方/小时，温度20±5℃，压力2.5kg/cm2

工装架

配备可用于实验和中试的涂层公自转转架各1套，共2套；

配套转架推车1套；

两工位转架存放台1套

真空泵

配备独立可控的分子泵1台抽速1900升/秒

机械泵:2台，包括：

1台抽速200立方米/小时

1台抽速60立方米/小时

罗茨泵1台抽速150升/秒

2.离子源及电源

阴极弧离子源

2套

配备具有永、电调节磁场且直径不小于100mm的阴极弧离子源及其配套直流电源，最大弧电流200A。

磁约束离子源

具有磁过滤功能的弯管弧离子源一套

参数：

XY方向正交扫描磁场1套

配备波形发生器1台

三组磁约束线圈

电流0-5A，电压0~5V，连续可调

电流0~10A，电压0~15V，连续可调

电流0~10A，电压0~20V，连续可调

一组磁聚焦线圈

1）电流0~5A，电压0~5V，连续可调

磁控溅射离子源

磁控溅射离子源2套

尺寸不低于：400×100（长×宽,单位mm），配备独立直流电源控制

参数：

空载电压：DC800V

工艺电压：DC200~800V

电流：DC0~15A

工作模式：电流连续可调

远控方式：模拟量可远传

冷却模式：风冷/水冷

刻蚀离子源

刻蚀离子源一套，尺寸不低于：400×100（长×宽，单位mm），可实现工件的惰性气体离子刻蚀

参数：

空载电压：脉冲DC2500V

工艺电压：脉冲DC100~2000V

脉冲频率：≥40KHZ

占空比：30％~90％连续可调

电流：脉冲DC0~5.0A

工作模式：电压连续可调

远控方式：模拟量远传

冷却模式：风冷/水冷

高频脉冲偏压电源

电压0~800V连续可调，功率不低于5kW,脉冲频率不低于100kHz，可实现在线数据采集

供气及加热系统

供气系统

配备质量流量计独立控制的气路四套，精度±5%

加热系统

具备独立加热系统，升温速度大于5℃/min

控制系统

软硬件

配备工业控制计算机1套，其中，CPU：2.7GHz，内存：4GB，19寸液晶显示器；

可实现所有操作的软件控制及数据采集存储

运行技术指标

极限真空

优于3×10-6mbar，漏率0.5Pa1小时

加热温度

20~400℃

3.其他需求：

（四）服务要求（采购标的需满足的服务标准、期限、效率等要求）：

1.质保期：此项目采购的产品需保证质保期不少于3年。

2.服务期限：产品终身维修，质保期满后，仍需提供专业维修服务，投标人在投标文件中需注明维修服务单项报价。

3.服务响应时间：接到维修电话后2小时内给予明确答复，24小时内到达现场维修。维修人员到现场后若问题特殊无法现场修复的，供货方需在48小时内给出合理解决方案。

4.其他服务要求：合同签订前须交纳中标金额5%的履约保证金，设备到货安装、调试运行正常，验收合格后一次性付清合同款，一年后无质量问题解付履约保证金。

（五）采购标的的验收标准；（可续行）

采购项目最终实施条件下：

现场的检验指标及方法

序号

功能或指标

验收或测试方法

1

真空室

有效净尺寸不低于600×600（直径×高，单位mm），配备可控转动机构、水冷机构、循环水机及空压机。循环水机流量4立方/小时，温度20±5℃，压力2.5kg/cm2

现场测量验证

2

工件架

配备可用于实验和中试的涂层公自转转架1套；

配套转架推车1套；

两工位转架存放台1套

现场验证

3

真空系统

配备独立可控的分子泵1台抽速1900升/秒；

机械泵2台

抽速200