1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

用于获得关于以CVD法沉积的层的信息的方法和设备.pdfVIP

用于获得关于以CVD法沉积的层的信息的方法和设备.pdf

    1. 1、本文档共19页，其中可免费阅读18页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
    2. 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
    3. 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
    4. 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
    5. 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
    6. 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
    7. 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
    8. 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
    查看更多
    本发明涉及用于获得关于由多个依次进行的步骤构成的过程的信息的方法，该过程用于在反应器(14)的过程腔中的衬底上沉积至少一个层、尤其半导体层，其中，以时间序列将用于致动器的调节数据(SD)、传感器的测量值(MW)作为原始数据(RD)和其时间基准一起存储在日志文件中。通过使用原始数据应获得关于沉积的层的品质的认识。为此借助计算装置通过原始数据的关系建立从原始数据获得过程参数，通过分析过程参数的时间变化曲线识别过程步骤的开始和结束以及过程步骤的类型；针对过程步骤的至少一些，从测量值形成对应于过程步骤的

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117660934A

    (43)申请公布日2024.03.08

    (21)申请号202311430530.5H01L21/67(2006.01)

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    知识产权出版社 + 关注
    官方认证
    文档贡献者

    知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

    咨询Ta 进入空间
    认证主体北京中献电子技术开发有限公司
    IP属地北京
    统一社会信用代码/组织机构代码
    91110108102011667U

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >