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本实用新型提供一种晶圆的槽式清洗装置及半导体机台,槽式清洗装置包括:箱体;多个挡板,设置于所述箱体内,以使所述箱体形成多个密封腔;多个支撑架,设置于所述密封腔内,以盛放晶圆;管道,与每个所述密封腔连接,以进行药液注入;水槽,以对所述箱体内药液刻蚀后的所述晶圆进行清洗;以及干燥槽,以对所述水槽清洗后的所述晶圆进行干燥。本实用新型可解决槽式清洗存在的交叉污染问题,进而提升晶圆产品的良率。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220553411U
(45)授权公告日2024.03.01
(21)申请号202322214670.0
(22)申请日2023.08.16
(73)专利权人合肥晶合集成电路股份有限公司
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