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本发明提供抑制电弧的产生、使制品成品率提高的溅射靶及其制造方法。一种溅射靶,其特征在于,在用倍率为400的激光显微镜进行观察时,至少非溅射区域中具有满足(a)最小自相关长度Sal为3μm以上且30μm以下的表面形状。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117616147A
(43)申请公布日2024.02.27
(21)申请号202280048914.8(74)专利代理机构中原信达知识产权代理有限
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