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氧化物反熔丝存储单元及制备方法和氧化物反熔丝存储器,涉及集成电路技术,特别涉及反熔丝存储器。本发明的氧化物反熔丝存储单元,包括设置于上极板和下极板之间的介质层,其特征在于,所述介质层的材质为氧化钛,所述上极板和下极板的材质皆为金属。本发明的介质层厚度可通过工艺精确控制,最薄可做到对应的编程电压约为3‑5V,便于被先进制程工艺集成。氧化钛薄膜制作工艺十分成熟,厚度偏差容易控制,本发明的反熔丝指标(编程电压、编程后的电阻)一致性很高。编程后电阻小,约为100欧。本发明的漏电流极低,具有高可靠的优点。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117596875A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202311780880.4
(22)申请日2023.12.22
(71)申请人成都蜀郡微电子有限公司
地址6
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