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本发明提供真空处理装置和真空处理方法,在成膜中向主辊稳定地供给偏置电位。在真空处理装置中,第一卷出辊送出第一基材,该第一基材具有成膜面和与上述成膜面相反侧的非成膜面。第一卷取辊卷取上述第一基材。主辊在上述第一基材被运送的方向上设置在上述第一卷出辊与上述第一卷取辊之间,具有与上述非成膜面抵接的外周面,至少从上述第一基材露出的上述外周面被绝缘材料覆盖,将上述第一基材卷绕运送。成膜源与抵接于上述非成膜面的上述主辊的上述外周面相向。第二卷出辊送出第二基材,该第二基材被上述主辊卷绕运送,在上述主辊的上述外
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117587377A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202310997648.X
(22)申请日2023.08.09
(30)优先权数据
2022-130962202
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