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本发明公开了一种基于图像切分和卷积神经网络的光刻工艺窗口分析方法,步骤如下:处理光刻胶图形图像数据集,得到包含单一特征的切分图像数据集;处理切分图像数据集,得到归一化后的训练集和测试集;构建卷积神经网络;训练并输出最优的模型,利用验证数据集评估模型的分类准确率;利用训练好的模型对光刻胶图形图案进行分类。本发明解决了利用卷积神经网络直接分类光刻胶图形图像时易将局部显影异常的量测图像误识别为显影正常图像的问题,提高了FEM分析效率和准确率,提高了光刻工艺稳定性,提升了半导体制造企业的核心竞争力。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117593745A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202311590901.6G06V10/776(2022.01)
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