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多晶硅磁控溅射靶材项目规划设计方案
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多晶硅磁控溅射靶材项目规划设计方案
目录
TOC\h\z25675前言 3
18960一、工艺说明 3
31831(一)、技术管理特点 3
25519(二)、多晶硅磁控溅射靶材项目工艺技术设计方案 4
30792(三)、设备选型方案 5
19209二、多晶硅磁控溅射靶材项目选址可行性分析 7
4051(一)、多晶硅磁控溅射靶材项目选址 7
32322(二)、用地控制指标 7
24770(三)、节约用地措施 9
17225(四)、总图布置方案 10
851(五)、选址综合评价
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