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本发明公开了一种透明宽带电磁屏蔽薄膜及其制备方法,该电磁屏蔽薄膜包括由下至上依次堆叠设置的高分子卷材基底、第一金属氧化物层、金属种子层、金属导电层以及第二金属氧化物层;所述金属导电层的构成材料为金属铜银,所述金属种子层的构成材料为金属铜。本发明在银膜沉积前引入超薄的金属铜种子层,作为种子层的金属铜可以提高沉积银原子表面扩散的活化能垒,从而抑制银核在表面的逃逸和扩散并实现超薄连续金属银膜的构建;基于超薄铜银复合薄膜为主体,两侧夹有导电氧化物薄膜结构,能实现对8~40GHZ范围电磁波的高效屏蔽,同时
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117560918A
(43)申请公布日2024.02.13
(21)申请号202311505001.7C23C14/56(2006.01)
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