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本实用新型涉及轴承生产技术领域,具体为一种新型轴承定位机构,包括打磨台,打磨台上滑接有滑座,打磨台的上方设有轴承外圈。通过设置的升降式外磨片和内磨片结构,并设置升降旋转式电磁吸结构,实现将轴承外圈进行磁性稳定吸附并配合弧形状的外磨片和内磨片结构,进而实现对轴承外圈的外壁和内壁进行同时打磨,提高了轴承外圈打磨用定位夹持机构的使用灵活性,通过在打磨台上设置具有电机的第二气缸,并在电机的电机轴上设置电磁铁结构,实现对轴承外圈方便的磁性稳定定位吸附,避免了现有的轴承外圈打磨用定位夹持机构大多采用双气缸定
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220463390U
(45)授权公告日2024.02.09
(21)申请号202321777402.3B24B47/22(2006.01)
(22)申请日2023.07.
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