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本发明提供一种晶圆清洗方法及晶圆清洗装置,晶圆清洗方法包括:通过真空吸附台将待清洗的晶圆吸附固定,真空吸附台驱动晶圆自转;从晶圆清洗装置中的两相流喷嘴的液体通道的末端喷出化学清洗液和/或去离子水,从两相流喷嘴的气体通道的末端喷出气体喷射到化学清洗液和/或去离子水的喷淋区域形成气泡,气泡随着化学清洗液和/或去离子水一起流动形成气泡悬浮液体;气泡在接触晶圆表面后破裂,产生高速的瞬间水流对晶圆清洗,以去除晶圆表面的污垢和微小颗粒;可以有效地去除晶圆表面的有机和无机污染物,并且对晶圆本身没有损伤。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117476438A
(43)申请公布日2024.01.30
(21)申请号202311482810.0B08B3/00(2006.01)
(22)申请日2023.11.0
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