透射电子显微镜样品制备所产生形变的控制方法.pdfVIP

透射电子显微镜样品制备所产生形变的控制方法.pdf

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本揭示内容涉及电镜样品的制备,提供了一种透射电子显微镜样品制备所产生形变的控制方法,包含:提供基于聚焦离子束系统获得置于基底之上的电子元件样品;进行预减薄处理,将电子元件样品减薄至第一厚度其为1.3至1.7微米;第一减薄处理,以一倾转角度和以第一光阑孔将电子元件样品减薄至第二厚度,其中倾转角度为±(0.5度至1.5度),第二厚度为700至900纳米;第二减薄处理,以所述倾转角度和以第二光阑孔将电子元件样品减薄至第三厚度其为250至350纳米;以及第三减薄处理,以所述倾转角度和以第三光阑孔将电子元

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN111474196A

(43)申请公布日

2020.07.31

(21)申请号20201

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