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本发明公开了一种清洗单晶硅片表面设备,包括:电动导轨,电动导轨的输出端连接有升降杆,升降杆底端连接有驱动箱,清洗篮连接于驱动箱底端,清洗篮内容纳有单晶硅片,电动导轨下方设置多个超声波清洗槽,电动导轨用于驱动升清洗篮沿清洗方向移动,升降杆用于调节清洗篮高度使其浸入超声波清洗槽的清洗液内;浑浊度检测单元,浑浊度检测单元通过在超声波清洗槽内设置浊度传感器,获取超声波清洗槽内清洗液的浊度值,判断超声波清洗槽内的浑浊程度。本发明采用浊度传感器对清洗液的浑浊程度进行检测,能够实时监控清洗液的使用情况,提示工
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117415086A
(43)申请公布日2024.01.19
(21)申请号202311653144.2
(22)申请日2023.12.05
(71)申请人曲靖阳光新能源股份有限公司
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