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本发明涉及半导体制造技术领域,为一种半导体制程中的刻蚀方法,所述刻蚀方法的刻蚀对象为晶圆,刻蚀图案包括第一区域和第二区域,所述刻蚀图案的第一区域具有第一图形密度值,所述刻蚀图案的第二区域具有第二图形密度值;所述第一图形密度值大于所述第二图形密度值;所述刻蚀方法包括:通过第一次光刻和刻蚀工艺在所述晶圆表面形成所述第一图形密度值的图案;在所述第一图形密度值的图案上,通过第二次光刻和刻蚀工艺在所述晶圆表面形成所述第二图形密度值的图案。本发明可以改善刻蚀后稀疏图形和密集图形负载效应,减少一次曝光/刻蚀后
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117423610A
(43)申请公布日2024.01.19
(21)申请号202311267448.5
(22)申请日2023.09.28
(71)申请人广州增芯科技有限
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