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本发明公开了一种用于生产电子级多晶硅的还原炉,所述用于生产电子级多晶硅的还原炉包括炉体、多个电极和覆层,所述炉体包括第一腔与围城所述第一腔的底盘和炉罩,多个所述电极设在所述底盘上,多个所述电极在所述底盘上形成多个电极环,多个所述电极环同轴布置,多个所述电极环的圆心位于所述底盘的轴线上,所述覆层设在所述炉罩的内壁面上,所述炉罩包括炉筒部和炉盖部,所述覆层包括周覆层和顶覆层,所述周覆层设在所述炉筒部的内表面上,所述顶覆层设在所述炉盖部的内表面上。本发明的用于生产电子级多晶硅的还原炉能耗低,还原炉内温
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117416962A
(43)申请公布日2024.01.19
(21)申请号202311741833.9
(22)申请日2023.12.18
(71)申请人洛阳中硅高科技有限公司
地址4
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