上虞市杜浦化工厂助剂整体搬迁及新增微电子化学品项目环境影响报告书.docVIP

PAGE

上虞市杜甫化工厂助剂整体搬迁及新增微电子化学品项目

环境影响报告书

（简本）

目录

TOC\o1-2\h\z1建设项目概况 -1-

1.1项目背景及建设地点 -1-

1.2项目建设内容 -2-

1.3政策与规划符合性分析 -4-

2建设项目周围环境现状 -4-

2.1环境现状 -5-

2.2评价范围 -5-

3环境影响预测及污染治理措施 -7-

3.1污染物产生、排放情况 -7-

3.2环境保护目标 -8-

3.3环境影响预测分析 -8-

3.4污染治理措施及达标可行性分析 -9-

3.5环境风险评价 -10-

3.6环境经济损益分析 -10-

3.7环境监测及环境管理 -10-

4公众参与 -12-

4.1公众参与方法、内容及对象 -12-

4.2环保公告结果 -12-

4.3公众参与总结 -12-

5评价结论 -14-

6联系方式 -15-

14-

1建设项目概况

1.1项目背景

上虞市杜浦化工厂（以下简称“杜浦化工”）成立于1990年，原厂址位于道墟镇，是一家专业从事印染助剂生产与销售的化工企业，公司原有已批产品包括柔软剂RL、匀染剂ALS-300、JFC、平平加O、乳化剂、十二烷基苯磺酸钠、洗涤剂七个产品。

杜浦化工原址位于绍嘉高速公路的拆迁范围内，为配合嘉绍跨海大桥建设、响应上虞区政府的号召，企业已于2009年全部拆迁完毕，并计划搬迁至杭州湾上虞经济技术开发区新址，搬迁后将形成年产40000吨微电子化学品（超纯二氧化硅磨料、后清洗液）、5600吨纺织印染助剂产品生产线。搬迁前后产品方案具体见表1.2-1。

搬迁前企业印染助剂的总产能为650t/a，随着近年来纺织服装业的蓬勃发展，已远远不能满足市场的需求，为此企业搬迁后扩大了产能，同时调整了助剂的种类。

项目微电子化学品作为电子产品表面处理液，属于高端产品，其市场行情与集成电路发展息息相关。集成电路技术以摩尔定律速度飞速发展，电子器件体积越做越小而功能越来越强大，这就要求在更小尺寸上做出更多的电子电路，为达到这一目的，要求集成电路生产过程中的晶圆表面可接受分辨率与平整度达到纳米级甚至埃级水平，为此只有对晶圆表面实现全局化平坦才能满足这一要求。到目前为止，采用CMP手段是公认的唯一能够对半导体晶圆实现全局化平坦要求的先进技术，该工艺使用的抛光液中碾磨料的好坏对集成电路最终表面的平整度有着重要影响，根据调查，目前市场上的抛光液中磨料以SiO2、Al2O3、CeO2为主，而二氧化硅磨料以其低硬度、低损伤、高加工精度以及环境友好等优点已成为抛光液的主流，随着集成电路的发展，其应用市场迅速增长；而后清洗液主要是配套集成电路抛光后的表面清洗除杂，目前主要采用非离子表面活性剂纯水溶液，本次项目选用单硬脂酸甘油酯。

项目超纯二氧化硅磨料技术来自于中国科学院上海微系统与信息技术研究所与上海新安纳电子科技有限公司共同自主研发的成果，采用以活性硅胶（固体）为原料，通过控制工艺参数，首先使硅胶溶解，分散于水中成为纳米级小颗粒状的硅溶胶，然后在一定温度和时间等参数的作用下使小颗粒缩聚成一定尺寸级别（纳米级）的匀质、稳定态颗粒，并通过过滤、离子交换等手段去除溶液中的颗粒、盐份等杂质，最终使产品的性能达到行业要求。该工艺技术目前为世界首创，与传统的有机硅水解工艺（如硅酸甲酯，经水解后生成二氧化硅和甲醇，然后对甲醇进行精馏提纯获得成品）相比，该工艺生产过程不产生有机醇等有机废气，安全性高，同时该工艺能耗相对传统工艺要低；另外，该工艺技术对参数的控制可使其粒径的大小稳定均匀，与传统工艺相比产品质量的可控性好。因此，项目二氧化硅磨料采取的工艺比传统工艺有较大的先进性。

为此，杜浦化工拟投资7000万元，在杭州湾上虞经济技术开发区新征用地20亩，购置静态化料釜、超滤浓缩器等国产先进设备，形成年产40000吨微电子化学品（超纯二氧化硅磨料、后清洗液）生产能力，同时利用原有的市场优势和技术优势，对现有的纺织印染助剂产品进行适当的优化，形成年产5600吨纺织印染助剂生产能力。

1.2项目建设内容

1.2.1工程概况

项目名称：助剂整体搬迁及新增微电子化学品项目

建设单位：上虞市杜甫化工厂

建设性质：搬迁扩产

总投资：7000万元

建设地点：杭州湾上虞经济技术开发区

项目工程组成表见表1。

表1项目工程组成表

序号

类别

主要内容及规模

1

主体工程

①新建助剂车间，占地面积882m2，建筑面积1764m2，两层结构；购置酯化釜、缩合