超精密研磨与抛光.ppt

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精密和超精

密磨料加工

;手工研磨;;挤压研磨; ;第一节研磨抛光机理;研磨特点;超精密研磨加工机理;超精密研磨加工机理和特点;研磨模型;;研磨加工的优点:被加工表面粗糙度小,变质层小,表面质量高,研磨装置简单

研磨加工的缺点:加工速度低,时间长,效率低。;硬脆材料的超精密研磨;硬脆材料的超精密研磨;硬脆材料的超精密研磨;超精密研磨;硬脆材料的超精密研磨;硬脆材料的超精密研磨;金属材料的超精密研磨;金属材料的超精密研磨;Brittlemode

Ductilemode; ;用涂有抛光膏的软轮(抛光轮)高速旋转(或往复运动)对工件进行微弱切削,从而降低工件表面粗糙度,提高光亮度的一种精密加工方法。

软轮用皮革、毛毡、帆布等材料叠制而成,具有一定弹性。抛光膏由磨料和油脂(油酸、硬脂酸、煤油、石蜡)调制而成。

抛光不能提高尺寸精度、形状精度和位置精度。; ; ; ; ; ; ; ;超精密抛光晶须增韧陶瓷表面; ; ; ; ; ; ; ;; ; ; ; ; ; ; ; ; ; ;研磨、抛光加工变质层;;;

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;第三节超精密平面研磨抛光

大规模集成电路的硅片,不仅要求极高的平面度,极小的表面粗糙度,还要求表面无变质层、无划伤。

其他:光学平晶、量块、石英振动子基片等。;研具:通过研磨使研具的平面状态复印到工件上。

常用研具:特殊玻璃、金属板上涂一层四氟乙烯和镀铅和铟、锡盘、沥青盘。

;获得高质量平面研磨抛光的工艺规律

研磨运动轨迹应均匀分布且不重叠—由研磨机的行星运动保证。

研磨盘要求材质均匀,并有微细孔容纳微粉磨料,修形后可获得平面度很高的研磨表面。

软质(半软质)研磨盘:容易获得粗糙度极小和变质层小的表面,但平面度不高。;获得高质量平面研磨抛光的工艺规律

使用金刚石超硬磨料研磨和抛光效率更高。

研磨平面度要求很高的零件时,可使用浮动研磨盘,以消除误差。

为提高效率,可在研磨剂中加化学活性物质。

避免粗磨料、空气中灰尘等混入,否则将使研磨表面划伤,达不到高质量研磨要求。;a.传统研磨抛光:完全依靠微细磨料的机???作用去除被研磨材质

b.研磨抛光新工艺:其原理不完全是机械式去除,如机械作用+化学作用等;;;液中研磨、抛光

将研磨、抛光操作浸入在含磨料的研磨剂中,借助于水波效果,利用浮游的细磨料颗粒进行研磨加工。;2.机械化学研磨、抛光

在腐蚀液中加有磨料,对工件边腐蚀边加工。

利用磨料本身或研磨剂与工件之间的化学作用,对工件进行研磨抛光。

在腐蚀液中研磨,是为了利用腐蚀液的腐蚀作用,提高效率。

工件与研磨液或磨料进行化学反应,可促进研磨的进行。;;工作原理

抛光工具上开有锯齿槽,靠楔形挤压和抛光液的反弹,增加微切削作用。

机理:微切削作用。;;;3.利用磁场研磨;;

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