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本发明公开了一种铜箔和PCB板的整平抛光工艺包括以下操作步骤:S1:除油除氧化膜;S2:水洗3次;S3:沥掉水分;S4:铜箔、PCB板整平抛光;S5:水洗3次;S6:稀酸脱膜;S7:水洗2次;S8:纯水洗第1次;S9:纯水洗第2次;S10:铜保护;S11:纯水洗3次;S12:气枪吹水;S13:干燥。本发明所述的一种铜箔和PCB板的整平抛光工艺,整平抛光速度适中,达到光泽度的同时减少铜金属的损失;在金属表面各区域的腐蚀速度一致,能够保持线路原本的形状;缓蚀性佳,可以降低点蚀的发生,能有效降低信号在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117340688A
(43)申请公布日2024.01.05
(21)申请号202311417464.8
(22)申请日2023.10.30
(71)申请人深圳市天跃新材料科技有限公司
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