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《集成电路和半导体行业隔振系统设计及技术要求》
编制说明
一、工作简况
1.任务来源
本标准按照GB/Tl.1-2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》
起草；本标准由中国国际科技促进会标准化工作委员会提出。本标准由中国国际科技促进
会归口。编制工作由上海大学力学与工程科学学院等单位负责。
2.项目的重要性和必要性
低纳米制程光刻机作为民主复兴版图的重要一块，已经上升为国家的战略目标。研究
表明，振动往往是制约光刻机向低纳米制程发展的重要因素，因此研究出高性能的隔振器，
对低纳米制程光刻机的发展具有重要意义。为提高光刻环境的振动品质，以非线性主动隔
振技术为核心的高性能隔振器应运而生，以期
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