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本发明公开一种高宽带IR滤光片,其包括沉积于基底层上的薄膜周期结构,薄膜周期结构包括相互交替的Ta2O5层与SiO2层;薄膜周期结构的膜系结构为G(aLbHaL)^P;其中,G为薄膜周期结构的初始系数,L为SiO2层,aL表示SiO2层的膜层厚度为a个基本厚度,H为Ta2O5层,bH表示Ta2O5层的膜层厚度为b个基本厚度,P为周期数;还公开一种高宽带IR滤光片的制备方法。本发明利用光波干涉原理,通过膜系设计,采用高低折射率材料相互交替形成薄膜周期结构,使薄膜周期结构等效折射率接近于基底层折射率
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117130085 A
(43)申请公布日 2023.11.28
(21)申请号 202311183205.3
(22)申请日 2023.09.14
(71)申请人 贵州铜仁旭晶光电科技有限公司
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