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本发明公开了一种可添加气氛的液冷低温等离子体表面处理设备,包括机柜、等离子体发生系统、液冷系统、气氛系统、送料系统和控制系统等组成部分。本发明在现有低温等离子体膜材料表面处理设备的基础上,增加了可以维持气氛的气氛维持部件,并针对气氛维持部件改进设计了合适的液冷电极和液冷系统,克服传统风冷设计不适用的问题。相较于传统的低温等离子体薄膜表面处理设备,本发明可满足更多材质和不同工艺对等离子反应气氛的需求,所设计的气氛维持部件可以良好的维持住气氛,同时液冷结构的设计,使膜材均匀受到相应气氛等离子体的处理
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117098300 A
(43)申请公布日 2023.11.21
(21)申请号 202311055572.5
(22)申请日 2023.08.22
(71)申请人 南京苏曼等离子科技有限公司
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