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光学薄膜与制备技术_ 中国矿业大学中国大学mooc 课后章节答案期末 考试题库2023 年 1. 在重叠多个四分之一膜系时，要把工作波长区吸收大的高反膜安排在入射光 一侧。 参考答案: 正确 2. 电磁矢量都是时间、空间的函数，所以边界条件对任意时刻、界面上任意位 置都成立 参考答案: 正确 3. 对物理光学基础建立起到最初作用的是 。 参考答案: 杨氏双缝干涉的提出 4. 真空蒸发镀膜时为了制造成分复杂或多层复合薄膜，应该采用 。 参考答案: 多源蒸发法 5. 不能采用电阻加热法进行镀膜的是 。 参考答案: 钨膜 6. 下面哪一种溅射方式的靶材可以是绝缘材料 。 参考答案: 射频溅射 7. 光学薄膜就是能够产生光的干涉效应的薄膜。 参考答案: 正确 8. 我们可以使用电子显微镜来直接观察和研究点缺陷。 参考答案: 错误 9. 核生长型生长方式发生的主要原因是蒸发原子间的结合能大于基片原子与蒸 发原子间的结合能。 参考答案: 正确 10. 电子显微镜和理论分析表明，核生长型薄膜的生长过程分为 阶 段。 参考答案: 小岛阶段_结合阶段_沟道阶段_连续薄膜阶段 11. 面缺陷常见的典型构型有 。 参考答案: 晶界_层错_孪晶面_表面 12. 下面哪一种镀膜技术称作辉光放电中的蒸发法 。 参考答案: 离子镀 13. 镀制薄膜时膜厚与下列哪些因素有关 。 参考答案: 蒸发源形状_基片形状_源基配置方式_蒸发源特性 14. 普通二极直流溅射中工作气体压强必须保持在 1～10Pa范围内，如果压强 低于1Pa，辉光放电就不能自持而无法溅射。而却能在低压下进行溅射镀 膜。 参考答案: 三级溅射_磁控溅射 15. 下列属于物理气相沉积薄膜的方法有 。 参考答案: 溅射镀膜_真空蒸发镀膜_离子镀 16. 真空蒸发镀膜一般包括以下哪些过程 。 参考答案: 沉积过程_加热蒸发过程_源-基输运过程 17. 下列属于绝对真空计的是。 参考答案: U 型真空计_压缩式真空计 18. 影响晶粒尺寸的因素有 。 参考答案: 薄膜厚度_基板温度_退火温度_沉积速率 19. λ/4-λ/2 双层减反膜系通常也称为W 形膜。 参考答案: 正确 20. 在基片上交替镀制光学厚度为四分之一波长的高、低折射率材料，就一定能 满足我们对薄膜光谱特性的需要。 参考答案: 错误 21. 气相原子或分子到达基片表面可能会发生以下现象 。 参考答案: 反射_吸附_重蒸发_二次蒸发 22. λ/4-λ/2 双层减反膜系通常也称为v 形膜。 参考答案: 错误 23. 表面反射对光学系统造成的严重后果有 。 参考答案: 光能损失_像亮度降低_分辨率下降_像的衬度降低 24. 麦克斯韦方程组的积分形式只适用于有限大小的电磁场。 参考答案: 正确 25. 介质的光学导纳是磁场强度与电场强度的比值 参考答案: 正确 26. 金属的热处理一般都在区域进行的。 参考答案: 低真空 27. 薄膜最早期的应用只局限于抗腐蚀和制造镜面。 参考答案: 正确 28. 薄膜光学研究的是光横穿过膜层传播的规律。 参考答案: 正确 29. 在玻璃表面上镀制一层薄膜达到减反射的目的应该镀制的材料是 。 参考答案: 氟化镁 30. 在s偏振时，有效光学导纳为 。 参考答案: Ncosθ 31. 电磁波传播的方向和速度与电磁波能量的传播方向和速度是一致的。 参考答案: 正确 32. 麦克斯韦方程组中的每个方程所对应的电磁定理是 参考答案: 电场高斯定理_磁场高斯定理_法拉第电磁感应定理_全电流定理 33. 触针法测得的膜厚是几何