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本实用新型提供一种用于基材pp膜真空镀膜设备的真空室结构,涉及真空镀膜的技术领域,包括真空室,所述真空室内设有隔板,通过所述隔板将所述真空室分割为溅射腔和卷绕腔,所述溅射腔有两个,呈左右对称布置,卷绕腔位于两个所述溅射腔之间;所述溅射腔对应的所述真空室的外壁设有第一真空组件,所述真空组件与所述溅射腔连通;所述第一真空组件有两组,呈对称分布;所述卷绕腔对应的所述真空室的外壁设有第二真空组件,所述第二真空组件与所述卷绕腔连通;所述第二真空组件有两组,呈对称分布。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219991719 U
(45)授权公告日 2023.11.10
(21)申请号 202320828204.9
(22)申请日 2023.04.14
(73)专利权人 四川海格锐特科技有限公司
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