一种CMP抛光垫泡孔凝固工艺.pdfVIP

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本发明公开了一种CMP抛光垫泡孔凝固工艺,包括如下步骤,在PET膜的表面涂覆工作浆,工作浆的厚度为0.15‑0.20mm,工作浆固化形成凝固层后,得到凝固膜;将凝固膜清洗后,进行收卷,得到干膜;将干膜中的PET膜分离,得到粗品;将粗品清洗后烘干,再进行收卷,得到半成品;在半成品上覆合PET膜,得到待处理膜;对待处理膜的表面进行打磨,打磨后待处理膜的厚度减少0.08‑0.12mm,得到CMP抛光垫。本申请的工艺能够得到两侧表面均较为平整的CMP抛光垫,有助于减少CMP抛光垫的表面形貌测量误差。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116985049 A (43)申请公布日 2023.11.03 (21)申请号 202310978536.X (22)申请日 2023.08.04 (71)申请人 万桦(常州)新材料科技有限公司 地

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