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本发明涉及一种适用于大尺寸硅片的高悬浮研磨液按照重量份计算,包括如下组分:保湿剂5‑20份;分散剂5‑20份;pH调节剂5‑25份;表面活性剂1‑10份;成膜剂10‑20份;螯合剂0.1‑5份;去离子水40‑70份。同时本发明还提供了该研磨液的一种研磨工艺。本发明的适用于大尺寸硅片的高悬浮研磨液不仅具有极佳的悬浮分散性和稳定性,并且经过研磨后的硅片表面质量极高,划伤极少,在提高生产效率、加工表面光洁度等方面均有一定效果,解决了磨料分散性能差和研磨后盘面具有脏污盘印等问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116948600 A
(43)申请公布日 2023.10.27
(21)申请号 202310774034.5
(22)申请日 2023.06.28
(71)申请人 浙江奥首材料科技有限公司
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