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本实用新型公开了一种离子处理工位,包括底座支架,在底座支架下层的两根长横杆之间连接有两条均垂直于长横杆的主机安装板,在两条主机安装板上安装有离子处理主机,在底座支架的一侧安装有气压控制单元,在底座支架上层设置有工件搁板,离子处理主机的两个喷头通过安装组件安装在底座支架上,安装组件包括固定座,固定座安装在底座支架上,且具有竖向延伸的安装槽,在固定座的安装槽内设置有水平支撑板,在水平支撑板上开设有两个并排的供喷头穿过的插孔,在固定座上还设置有第一卡板和第二卡板。提高了空间利用率,使布置更为合理;喷头
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210600704 U
(45)授权公告日
2020.05.22
(21)申请号 20192
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