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本发明提供了一种沟道的刻蚀方法,包括:提供一待刻蚀对象,包括若干鳍结构,每个鳍结构均包括交叠的牺牲层与沟道层,若干鳍结构沿沟道方向的宽度存在不同;对待刻蚀对象进行一次刻蚀后,循环进行表面处理吹扫处理以及二次刻蚀,直至刻蚀掉所有的鳍结构的牺牲层;所述吹扫处理用于除去第一物质与第二物质;所述第一物质表征了进行表面处理时引入的物质;所述第二物质表征了进行表面处理时产生的物质;该技术方案,在实现SiGe相对于Si高选择比刻蚀的同时,还解决了表面处理过程导致的牺牲层相对于介质材料(比如SiN等)的选择比较
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116825823 A
(43)申请公布日 2023.09.29
(21)申请号 202310789675.8
(22)申请日 2023.06.29
(71)申请人 复旦大学
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