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半导体器件加工车间用废气净化设备.pdfVIP

半导体器件加工车间用废气净化设备.pdf

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    本实用新型涉及废气处理附属装置的技术领域，特别是涉及一种半导体器件加工车间用废气净化设备，其可以对废气进行酸碱中和，避免对废气中的酸碱成分对UV光解装置造成腐蚀，从而保证设备的使用寿命，提高实用性；包括箱体，箱体的内部设置有工作腔，并在工作腔内设置有UV光解装置和活性炭吸附装置，箱体的右端设置有出气管，并在出气管处设置有出气风机；还包括喷淋塔、溶液配制箱、水箱、第一喷淋泵、第二喷淋泵、第一连通风管、第二连通风管、隔板、中和水槽、第一喷淋装置和第二喷淋装置，喷淋塔的内部设置有放置腔，隔板将放置腔隔

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210544343 U (45)授权公告日 2020.05.19 (21)申请号 20192

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