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半导体制作工艺设备.pdfVIP

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    本实用新型公开一种半导体制作工艺设备，包括一液体处理制作工艺单元以及一空气气流系统。该液体处理制作工艺单元包括一承载台用于托持一晶片、一旋转机构与该承载台连接、一液体分配器用于将一液体分配至设置在该承载台上的晶片的表面上。该空气气流系统用于在该液体处理制作工艺单元中产生一空气气流直接吹拂设置在该承载台上的该晶片的该表面。一离子产生器，整合在该空气气流系统中，用于提供离子至该空气气流中。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210516677 U (45)授权公告日 2020.05.12 (21)申请号 20192

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