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本实用新型涉及带可调式射频线圈的电浆蚀刻反应室,包括机壳、金属基座、铝基板和陶瓷板,机壳内部形成一容室,金属基座设于容室的下方并通过导线与外部电源连接;铝基板设置在金属基座上用于承载晶圆;机壳上方开有一通孔,陶瓷板封盖该通孔;其特征在于,还包括设置在陶瓷板上方的射频线圈及其调节装置,调节装置由绝缘材料制成,包括底座、螺杆、固定座,螺杆上端为螺旋部,下端为光杆,光杆连接底座,固定座与螺旋部螺纹连接;射频线圈的中心固定在固定座上,射频线圈的外圈固定在底座上。通过调节装置来上下调节射频线圈,改变射频线
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210349768 U
(45)授权公告日
2020.04.17
(21)申请号 20192
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