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2023-09-07 发布于北京
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一种利用扩散边界层的刻蚀仿真方法、装置及设备.pdf

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本发明涉及光刻模拟领域，特别是涉及一种利用扩散边界层的刻蚀仿真方法、装置、设备及计算机可读存储介质，通过接收仿真掩模板形状数据；确定包括所述仿真掩模板形状数据的矩形计算域；在所述仿真掩模板形状数据的边缘位置确定预设厚度的界面区域；根据去除所述界面区域的所述仿真掩模板形状数据确定定义域；对所述矩形计算域中的点引入场变量；通过正交网格的扩散方程计算求解，得到光刻模拟形状数据。本发明在扩散方程中整理出包含边界条件的项，也即相当于将边界条件整合进算式中，避免了在扩散方程的基础上面对不规则的掩模板边缘手动

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116702524 A (43)申请公布日 2023.09.05 (21)申请号 202310997697.3 (22)申请日 2023.08.09 (71)申请人华芯程（杭州）科技有限公司地址

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