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实用新型公开了一种垫片抛光处理装置，包括底座和处理箱，所述处理箱位于底座上方，所述处理箱内壁下方固定连接有密封箱，所述密封箱内部一侧安装有第一电机，所述第一电机上方活动连接有电机轴，所述第一电机一侧设置有转动轴，所述转动轴与电机轴之间通过皮带连接，所述转动轴一端下方通过轴承座与密封箱固定连接，所述转动轴另一端贯穿密封箱且延伸至密封箱上方，所述转动轴上方固定连接有第一转盘，所述第一转盘上方表面固定连接有第一磨盘，本实用新型涉及垫片加工技术领域。该垫片抛光处理装置，可以实现无需人工进行手动翻面的工作
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210307240 U
(45)授权公告日
2020.04.14
(21)申请号 20192
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