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根据本发明实施方式的激光退火装置(1)包括:激光光源(11),用于发出激光光束(L1),以使得基底(100)上的非晶膜(101a)结晶化并形成多晶硅膜(101b);投影透镜(13),用于会聚所述激光光束,以对硅膜(101)进行照射;探测光源,用于发出探测光束(L2);光电检测器(25),用于对透过硅膜(101)的探测光束(L3)进行检测;处理装置(26),用于计算所述光电检测器所输出的检测信号的检测值的标准差,并根据该标准差,判断所述硅膜(101)的结晶状态。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 109643647 A
(43)申请公布日
2019.04.16
(21)申请号 20178
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