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本实用新型提供了一种未瘤化处理铜箔及其覆铜板和金属基覆铜板,其中,未瘤化处理铜箔为具有两个相对的表面的电解铜箔,且至少其中一个表面形成偶联剂表面处理层。本实用新型采用未瘤化处理的铜箔因而可以避免因存在铜瘤脱落滞留于基材中,造成覆铜板基材表面蚀刻不净或蚀刻空洞,或因铜瘤局部生长过大等造成覆铜板耐压失效问题。且至少其中一个表面形成偶联剂表面处理层,其表面经偶联剂处理之后,可以提高电解铜箔的剥离强度,同样能达到瘤化所实现的效果,因而仍然能满足覆铜板中铜箔与基材之间的压合要求。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210328175 U
(45)授权公告日
2020.04.14
(21)申请号 20192
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