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本发明涉及一种复合铜箔表面防氧化层的形成方法,包括如下步骤:在真空条件下,以复合铜箔为基材,以抗氧化金属作为电感耦合等离子体阴极靶材,对复合铜箔进行电感耦合等离子体离化处理,使复合铜箔的表面形成防氧化层,防氧化层为抗氧化金属与铜的合金。本申请提供了一种复合铜箔表面防氧化层的形成方法,在复合铜箔线路电阻不受影响的条件下,以抗氧化金属作为电感耦合等离子体阴极靶材,通过电感耦合等离子体离化处理的方式,在复合铜箔的表面形成致密的防氧化层,相比于传统的需要通过酸碱电解工艺形成防氧化层的方式,本申请提供的方
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116676566 A
(43)申请公布日 2023.09.01
(21)申请号 202310688985.0 H01M 4/66 (2006.01)
(22)申请日 2023.06.1
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