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一种垂直连续电镀中的下遮板结构；包括上板体和下板体，两者贴合并在竖直方向滑动配合；上板体上凸设有多个固定部，用于固定电镀设备的活动提把；下板体的下边缘贴合电镀槽的槽底，构成电流无法从下方通过；上板体和下板体通过滑动配合结构滑动配合，其包括滑槽及定位销，两者分别设置于上板体和下板体上；定位销伸入滑槽，并与之在槽深方向限位，构成定位销仅能在竖直方向位移。本实用新型通过在竖直方向滑动设置的上板体和下板体的设计，得以实现当电镀小板时，下遮板结构的高度变高，当电镀大板时，下遮板的高度变低，进而能够因应不同
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210237831 U
(45)授权公告日
2020.04.03
(21)申请号 20192
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